A napelem gyártási folyamata (2)

(5) Perifériás maratás( napelem): a diffúzió során a szilícium lapka kerületi felületén kialakuló diffúziós réteg rövidre zárja az akkumulátor felső és alsó elektródáját. A perifériás diffúziós réteget maszkoló nedves maratással vagy plazma száraz maratással kell eltávolítani.

(6) Távolítsa el a hátsó PN + csomópontot(napelem). A hátsó PN + csomópont eltávolítására általában nedves maratási vagy csiszolási módszert alkalmaznak.

(7) Felső és alsó elektródák készítése(napelem): vákuum elpárologtatást, elektromos nikkelezést vagy alumínium paszta nyomtatást és szinterezést alkalmaznak. Először az alsó, majd a felső elektródát készítik el. Az alumíniumpaszta nyomtatás széles körben alkalmazott eljárási módszer.

(8) Reflexiós film készítése(napelem): a bemeneti visszaverődési veszteség csökkentése érdekében a szilícium lapka felületére tükröződésgátló fóliát kell bevonni. A tükröződésgátló fólia készítéséhez szükséges anyagok közé tartozik a MgF2, SiO2, Al2O3, SiO, Si3N4, TiO2, Ta2O5 stb. Az eljárási módszerek lehetnek vákuum bevonási módszer, ionos bevonási módszer, porlasztásos módszer, nyomtatási módszer, PECVD módszer vagy permetezési módszer.

(9) Szinterezés: az akkumulátor chipet a nikkelből vagy rézből készült alaplemezre szinterelik.

(10) Vizsgálati osztályozás: a meghatározott paraméterek és előírások szerinti vizsgálati osztályozás.